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真空喷射雾化过程中喷嘴口的流动模型计算与数值分析
真空喷射雾化过程是真空喷射法制备高分子薄膜主要成膜过程,该方法主要是利用真空室内外较大的压差使聚合物溶液通过喷嘴喷射雾化后分散成不计其数的高速运动的细小液滴到达基片形成高分子薄膜。
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沉积温度对磁控溅射制备V-Al-Si-N硬质涂层结构及性能的影响
本文利用磁控溅射的方法通过改变基片温度制备了不同沉积温度的V-Al-Si-N涂层,并利用X射线衍射(XRD) 、扫描电镜(SEM) 、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机对涂层的结构及性能进行了分析。
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