Ni，Cu纳米线阵列以及Ni/Cu超晶格纳米线阵列的光学

　　近年来，准一维纳米结构材料由于其在新型的电子，光学以及光电器件中有着潜在的应用价值，因此引起了广泛的研究兴趣。

　　最近，采用电化学淀积以及多孔阳极氧化铝模版生长法(孔径大小：50 nm，背部溅射制作的金膜工作电极厚度：200 nm)成功地制备出Ni，Cu 以及Ni/Cu 超晶格纳米线阵列。

　　在本文中，对这种纳米线阵列结构进行了光学实验测量研究。样品在可见到红外波段的光学反射光谱通过成像光谱仪来记录(测量范围：400～2000nm)。实验中，样品的温度分别被设定为4.2，70，15，200 K 以及室温。发现，纳米线阵列样品的光学反射光谱强度和样品的温度密切相关。在可见光波段，所有样品当温度为200 K时光学反射光谱最强。然而，在红外波段，样品的光学反射光谱又表现出和可见光波段不同的特征。

　　最后讨论了产生这些实验现象的物理机制，这将有助于将金属纳米线阵列结构应用于光学以及光电器件中。