弧源电流对TiN薄膜结构影响的实验材料与方法
2013-04-05 史新伟 佛山市震德塑料机械有限公司
本文利用AIP-01型多弧离子镀膜机在不锈钢基体及Si片上沉积了TiN薄膜，从多弧离子镀原理上研究了弧源电流对TiN 薄膜结构及摩擦学性能的影响。
实验材料与方法
基体材料为20 mm×20 mm×2 mm 的不锈钢(1Cr18Ni9Ti)，Si 片随炉。薄膜的制备在AIP- 01型多弧离子镀膜机上进行，试样经机械抛光、碱洗、酒精中超声波清洗，最后充分干燥后装入清洁的镀膜室内。薄膜沉积前先通过Ar+刻蚀对基体清洗5 min，镀膜时氩气流量为零，固定N2 流量为0.22 SLM/s，具体工艺参数列于表1。
表1 TiN 薄膜沉积工艺参数
用场发射扫描电镜(FE- SEM)观察薄膜的表面形貌及断面形貌;用显微硬度计测量TiN 薄膜的硬度，载荷为25 g，加载时间10 s;用实验室自改装的摩擦系数测定装置测量TiN 薄膜的摩擦系数，由TiN 薄膜样品与A3 钢组成一对摩擦副，试验过程中上试样固定，A3 钢圆盘转动，干摩擦，转速为0.87 转/ 分，实验载荷为1 N。
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不同弧源电流TiN薄膜的表面形貌及其摩擦学性能研究
