靶电流对电弧离子镀TiAlN膜层组织及成分的影响

　　摘　要：采用高纯铝、钛两个靶材,分别在纯钛TA2和钛合金TC11基材上沉积制备了TiAlN膜层.用扫描电子显微镜(SEM)观察了膜层的形貌、用能谱仪(EDS)分析了膜层的成分.结果表明:在不同基材上沉积的膜层表面形貌存在差异;两种工艺在不同的基材上沉积的膜层中N、Al和Ti元素呈梯度分布,可明显的观察到界面处存在这三种元素的互扩散,使膜层与基体间形成冶金结合.

　　关键词：电弧离子镀;TiAlN;组织;成分

　　分类号：TG146.2　文献标识码：A

　　文章编号：1672-7126(2008)增刊-064-04

Influence of Target Current on Microstructures and Stoichiometries of TiAlN Coating Deposited by Arc Ion Plating

Wang Shaopeng　 Pan Xiaolong　 Li Zhengxian　 Wang Baoyun　 Yan Peng　 Ji Shouchang