含氢类金刚石薄膜的制备及其光学常数研究

2012-12-25 张艳茹 西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室

含氢类金刚石薄膜的制备及其光学常数研究

张艳茹 杭凌侠 惠迎雪 潘永强

(西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 西安 710032)

　　摘要：利用非平衡磁控溅射技术制备类金刚石薄膜时，在放电气体中引入含-CH3 原子团的甲烷气体，即采用反应磁控溅射技术得到含氢DLC 薄膜，实验系统如图1 所示。对反应气体流量进行工艺优化后，薄膜沉积速率可提高到3.8 nm/min;氢元素的加入使得折射率、消光系数降低，其中消光系数的变化比较明显，减小一个数量级，详见图2；在1064 nm 处，采用典型制备工艺参数，含氢DLC 薄膜复折射率可到达1.7032～i0.0041，根据CH4气体流量的不同，复折射率小范围上下变动;相同厚度的DLC 薄膜，在3-5mm波段，反应气体的加入使得峰值透过率增高15%。

　　关键词：反应磁控溅射 含氢类金刚石薄膜 光学常数 透过率