真空镀膜_真空镀膜原理_溅射镀膜_气相沉积

真空镀膜

电镀废水中的有机污染物来源主要有3个方面：镀前处理、电镀过程和镀后处理。污水中有机污染物的3种去除方法：生化法、微波化学法和物化法。

真空蒸镀阻隔包装薄膜的主要制备方法和应用

真空蒸镀阻隔包装薄膜的主要制备方法主要可分为物理气相沉积和等离子体增强化学气相沉积。物理气相沉积法可分为蒸镀法和溅射法。化学气相沉积主要是PVDC。
在铜和硬质合金上金刚石膜的沉积研究

铜上金刚石薄膜的制备有很大的困难，主要原因在于铜与金刚石之间没有化学反应，无相应的碳化物生成；同时铜和金刚石的热膨胀系数的差异过大。本文首先研究了高纯铜片上金刚石的形核，采用亚微米金刚石涂层显著地增强
真空镀铝工艺

真空镀铝是在真空状态下，将铝金属加热熔融至蒸发，铝原子凝结在高分子材料表面，形成极薄的铝层。真空镀铝常见的问题有：薄膜表面出现褐色条纹、镀铝时薄膜出现孔洞、镀铝时薄膜出现拉伸现象。本文给出了一些解决方
真空镀膜机膜厚监控的方法

真空镀膜机的操作系统中最关键最直接的部份膜厚监控系统目前主要有微电脑数控式、水晶振动子式、光电式以及正在发展的数控与光电相结合式几种方式。
化学气相沉积技术在冷拔模具上的应用

化学气相沉积（CVD）技术是近年来国际上发展和应用较广的一项先进技术。上海冷拉型钢厂将这项技术应用于模具，取得显著效益。