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超纳米金刚石薄膜的性能和制备及应用
文章对超纳米金刚石与其他CVD 金刚石的性质进行了对比，对超纳米金刚石的生长机理进行了简要概述，着重分析了各种化学气相沉积技术制备超纳米金刚石的基本原理、特点及取得的研究成果，最后详细讨论了超纳米金刚石的
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电子束物理气相沉积热障涂层抗冲蚀性能研究
通过AIP和EB-PVD技术制备的热障涂层，在其抗冲蚀性能评价方面仍然没有详细的报道。为此，本研究利用AIP法制备HY3涂层，利用EB-PVD制备YSZ陶瓷面层，对其组分、相结构和抗冲蚀性能进行系统研究，并对评价设备作介绍。
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直流热阴极PCVD法间歇生长模式制备透明金刚石膜
采用直流热阴极PCVD技术，进行了甲烷和氢气条件下加入氮气制备透明金刚石膜的研究，主要是通过设置刻蚀步骤，改变温度和时间参数，在间歇生长模式下使氢和氮原子共同作用，实现对非金刚石成份的刻蚀和金刚石的择优取
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放电功率对VHF- PECVD沉积微晶硅薄膜的生长特性的仿真模拟
本文采用Comsol中的等离子体模块和Chemkinpro中的AUROR模块相结合的方法，研究了甚文频PEVCD沉积μc-Si:H薄膜过程中放电功率对等离子体特性、气相反应和表面生长的影响，并与实验进行了比较。
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HMX颗粒的气相沉积包覆研究
本文通过真空气相沉积技术，在HMX炸药颗粒表面成功包覆了石蜡和paralene膜，并且在膜较薄情况下实现了包覆度100%。测试了HMX气相包覆颗粒的机械感度和静电火花感度。
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气相沉积硅薄膜微结构及悬挂键缺陷研究
在单晶Si(100)基体上利用电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法制备硅薄膜, 并采用X射线衍射谱(XRD)、透射电镜(TEM)、Raman光谱、电子自旋共振(ESR)波谱等实验方法研究了不同Ar流量下硅薄膜微结构及悬挂键密度的变
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物理气相沉积(PVD)技术
物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特
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