电子产品溅射镀膜使用的靶材

　　电子产品在各行各业中都有所应用，而这些电子产品大部分都需要进行镀膜后才投入到市场之中，现在常用的真空镀膜设备是磁控溅射真空镀膜机，在这里，我们来看一下在溅射中所使用的靶材。一般我们使用的靶材不外乎三种类型，金属靶材、合金靶材、化合物靶材。

　　硬碟使用的靶材有很多，在记录面上镀上多层的薄膜，每层薄膜有各自的功效，在最底层，会镀上40nm厚的铬或者铬合金，增强结合力和抗腐蚀能力，中间再镀上15nm厚的钴铬合金，再镀上35nm厚的钴合金，作为磁性材料，这种材料可以充分体现磁性和低干扰的特性，最后再镀上15nm厚的碳薄膜。

　　磁头的溅射靶材常用的是铁镍合金，后来又增加了一些新的化合物材料，像氮化铁、氮化铁钽，氮化铁铝等，这些都是优质的磁介质膜层靶材。

　　CD碟片会用上铝膜作为反射层镀在塑料的工件上，但对于CDROM和DVDROM这些碟片，就不能使用铝膜了，因为在这些碟片上会有一层染料层，上面的物质对于铝而言具有一定的腐蚀性，一般会由金膜或银膜替代。

　　光碟的膜层也是多层组成的，它在染料层上镀上30nm厚的铁钴合金记录层，里面混有非晶态稀土过渡元素，再镀上20到100nm厚的氮化硅介质层，最后镀上铝膜反射层。

　　这些需要落得磁性能，能够记录数据的电子产品，要实现这些功能，还是要靠各种不同物质所溅射而成的薄膜，靠其成膜后显示出来的晶体状态排序来实现。

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