JB/T 8946-1999 真空离子镀膜设备

2009-06-28 全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理

JB/T 8946—1999 真空离子镀膜设备

Vacuum ion coating plant

1、范围

JB/T 8946—1999 真空离子镀膜设备标准规定了真空离子镀膜设备的技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。

本标准适用于压力在10-4~10-3Pa范围的真空离子镀膜设备（以下简称设备），具体包括如下类型：多弧离子镀、电弧放电型真空离子镀、空心阴极离子镀（HCD）、射频离子镀（RFIP）、直流放电二极型（DCIP）、多阴极型、活性反应蒸发镀（ARE）、增强型ARE、低压等离子体离子镀（LFPD）、电场蒸发离子镀、感应加热离子镀、簇团离子束镀等。

注：离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物沉积在基片上。

2、引用标准

下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。

GB/T 6070—1995 真空法兰

GB/T 11164—1999 真空镀膜设备通用技术条件

3、技术要求

3.1设备正常工作条件

3.1.1 环境温度：10℃~30℃。

3.1.2 相对湿度：不大于75%。

3.1.3 冷却水进水温度：不高于25℃。

3.1.4 冷却水质：城市自来水或相当质量的水。

3.1.5 供电电源：380 V三相50 Hz 或220 V单相50 Hz（由所用电器需要而定）；