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JB/T 9210-1999真空热处理技术标准
JB/T 9210-1999真空热处理规定了真空热处理设备的特殊要求.真空热处理常用金属材料,真空热处理的工艺过程及其基本工艺参数。本标准适用于金属的真空淬火、真空回火、真空退火、真空固溶热处理及真空时效等工艺.
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JB/T 8107-1999 容积真空泵 振动测量方法
JB/T 8107-1999 容积真空泵 振动测量方法标准适用于极限压力低于100 Pa,并能直接向大气空间排气的容积真空泵(以下简称泵)的机械振动测量。规定了容积真空泵振动的测量方法。
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GB/T 21385-2008 金属密封球阀
GB/T 21385-2008 金属密封球阀技术标准适用于公称尺寸DN15~DN600,公称压力PN16~PN420的球阀。规定了法兰连接、焊接连接及螺纹连接金属密封球阀(以下简称“球阀”)的术语、结构型式、技术要求、材料、装配与调试
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JB/T 8105.2-1999 金属密封真空规管接头
JB/T8105.2-1999金属密封真空规管接头标准适用于可烘烤真空系统中真空测量用金属密封的规管接头,规定了金属密封真空规管接头的型式与结构尺寸及技术要求。
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JB/T 8105.1-1999 橡胶密封真空规管接头
JB/T 8105.1-1999 橡胶密封真空规管接头标准适用于真空系统真空测量用橡胶密封的测量规管接头,规定了橡胶密封真空规管接头的型式与结构尺寸及技术要求。
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JB/T 8946-1999 真空离子镀膜设备
JB/T8946-1999真空离子镀膜设备标准适用于压力在10-4~10-3Pa范围的真空离子镀膜设备,规定了真空离子镀膜设备的技术要求,试验方法,检验规则,标志、包装、运输和贮存等。
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JB/T 8945-1999 真空溅射镀膜设备
JB/T8945—1999真空溅射镀膜设备标准适用于压力在1×10-4~5×10-3Pa范围的真空贱射镀膜设备,规定了真空溅射镀膜设备的型号和基本参数,技术要求,试验方法,检验规则,标志、包装、运输和贮存等。
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JB/T 8944-1999 单级旋片真空泵
JB/T8944-1999单级旋片真空泵标准适用于单级、油封旋片真空泵。规定了单级旋片真空泵的型式与基本参数,技术要求,抽样及判定方法,试验方法,检验规则,标志、包装、运输和贮存。
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JB/T 6922-2004 真空蒸发镀膜设备
JB/T6922-2004真空蒸发镀膜设备标准适用于极限压力在5x10-4Pa-5 x10-3Pa范围的真空蒸发镀膜设备,规定了真空蒸发镀膜设备的型式和基本参数、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存等要求。
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JB/T 10074-2004 电阻真空计 技术条件
JB/T 10074-2004电阻真空计技术条件适用于压强测量范围:105Pa-10-1Pa的真空计,规定了电阻真空计(以下简称真空计)的技术要求、试验方法、检验规则等内容。该真空计由电阻真空计规管和电阻真空计电路组成。
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