CVD直接生长技术高效碳纳米管镍氢电池的研究

采用热化学气相沉积技术(CVD)，在泡沫镍表面直接生长多壁碳纳米管(MWNT)，以此MWNT-泡沫镍基底为电池集流体，并使用该基底、通过干粉末滚压工艺制备镍氢电池电极，对电池进行了一系列的充放电性能测试。

MPCVD法合成单晶金刚石的研究及应用进展

本文简介近年来MPCVD技术合成单晶金刚石的研究进展，评述了在该研究领域处于领先地位的英美日等国有关公司及研究机构所取得的成果，并对单晶金刚石的应用前景作出了展望。

TC4表面激光渗氮研究

以TC4合金为基材，利用连续激光器对表面激光渗氮，生成了金黄色的氮化层。用SEM，EDS，XRD 对试样渗氮层的微观组织结构、元素分布以及物质组成进行了分析，结果表明生成了氮化钛的缺位式固溶体。

真空保鲜技术正式应用于中国家庭带来健康生活

真空保鲜冷冻保鲜时间比传统保鲜方式延长3-5倍，能更好的密闭容器，隔离外界空气，更高效抑制细菌和微生物滋生，保留住更多营养和新鲜。

高温真空钎焊炉钼屏开裂原因分析

在高温真空钎焊炉中对汽车用三元催化净化器金属蜂窝载体进行真空钎焊，设备使用较短时间内，炉胆钼屏出现变形、开裂失效现象。对开裂的高温真空钎焊炉钼屏进行了使用前后的形貌对比及化学成分分析。

固体润滑轴承用9Cr18不锈钢离子注入与磁控溅射改性真空摩擦学研究

为了提高空间固体润滑滚动轴承耐磨寿命，采用全方位离子注入和磁控溅射技术对空间固体润滑轴承用9Cr18材料进行耐磨减摩表面改性研究。

两种不同铁芯结构纵磁真空灭弧室触头三维磁场对比分析

本文采用有限元分析软件对两种不同铁芯结构的纵磁杯状真空灭弧室触头三维模型进行仿真，分析了瞬态情况下动、静触头表面和触头开距中心平面的纵向磁场分布情况以及磁场滞后时间。

真空法从铟矿中制备铟的机理研究

在真空条件下，本文采用热力学分析方法计算真空下铟矿碳热还原反应过程中发生的反应的吉布斯自由能以及起始反应温度。

低温多效海水淡化用蒸汽喷射器的优化设计

提高蒸汽喷射器性能，能够降低低温多效海水淡化系统能耗，采用理论推导和数值模拟相结合的方法对喷射器性能进行研究。在喷射器索科洛夫设计方法的基础上，修正了喷射器最大可达喷射系数的计算模型。

分子相互作用体积模型在锡锑合金真空蒸馏深度脱锑中的应用

本研究利用MIVM 计算了锡锑合金组元的活度系数，理论上预测了锡锑合金真空蒸馏深度脱锑的可行性，并结合验证试验进行了深入研究。

偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB2基涂层结构及力学性能的影响

本文采用中频和射频电源的双靶磁控溅射设备通过改变基片偏压制备了不同偏压的TiB2-Ni涂层。对所制备的涂层进行了结构和性能的研究，探讨了偏压对其生长结构，以及硬度、断裂韧性、膜基结合力和摩擦学等方面的性能。

工作气压对多脉冲鞘层动力学行为的影响

电子束快速成型机聚焦及偏扫系统的工程实现

阐述了电子束快速成型机聚焦及偏扫系统在工程上所遇到的几个问题及解决方法。本文介绍电子束快速成型机聚焦及偏扫系统几个工程问题的解决方法。

电弧离子镀沉积TiCx薄膜的结构和性能研究

本文采用脉冲偏压电弧离子镀技术改变分离靶弧流获得不同成分的TiCx薄膜，研究不同碳含量对薄膜结构和性能的影响。

电感耦合放电对双频容性耦合Ar-N2等离子体物理特性的影响

本文使用电感耦合增强的双频容性等离子体化学气相沉积系统，采用不同频率组合放电产生等离子体，探索产生高密度均匀等离子体的条件。

离子后氧化对42CrMo钢渗氮组织与耐蚀性的影响及机理分析

采用普通空气对42CrMo钢离子渗氮样进行了离子后氧化处理，将离子后氧化与42CrMo钢离子渗氮结合起来，研究离子后氧化温度与时间对复合渗层组织及耐蚀性的影响，并从热力学和动力学角度对离子后氧化机理进行了详细探讨

退火温度对DLC膜热稳定性及摩擦学性能的影响

采用非平衡磁控溅射技术分别在氮化硅陶瓷球和高速工具钢圆盘表面制备了类金刚石(DLC)膜，使用箱式电阻炉对DLC膜在大气环境中进行高温退火处理以研究环境温度对DLC膜摩擦学性能的影响。

丙烷浓度对45钢离子碳氮共渗的影响

本研究选用丙烷作为供碳剂，研究了不同的丙烷浓度(从0.5%到2.5%)对45钢离子碳氮共渗的影响，其目的是得到渗速最快且相组成最优的最佳工艺。

ICP刻蚀4H-SiC栅槽工艺研究

为避免金属掩膜易引起的微掩膜，本文采用SiO2作为掩膜，详细研究了不同工艺参数包括ICP功率、RF偏压功率、压强、氧气含量等对SiC槽栅区域的刻蚀速率、SiC与SiO2的刻蚀选择比、刻蚀形貌的影响。

7A04铝合金表面DLC薄膜制备及性能研究

本研究利用RF-PIII&D设备，在7A04铝合金表面制备DLC薄膜。为提高膜基结合力，采用非平衡磁控溅射技术，在铝合金表面和DLC薄膜之间沉积一层Si膜，作为过渡层。