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钎焊工艺对Ni/BNi7+Cu9%钎缝组织及显微硬度的影响
本文采用BNi7钎料和纯Cu粉末制成复合钎料,对纯镍进行真空钎焊,研究不同的钎焊参数下复合钎料形成内部组织及显微硬度,同时了解温度对镍基钎料组织分布的影响。
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半球形基底镀膜膜厚均匀性理论分析
对特殊的非平面基片-半球表面上镀制薄膜的膜厚均匀性进行了理论分析研究。该研究工作对半球面这种复杂的非平面基片上镀膜膜厚均匀性研究工作具有理论指导意义,同时对改善此种表面上的膜厚分布研究提供了相关的理论
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新近吹填淤泥地基真空固结失效原因分析及对策
为了深入研究新近吹填淤泥地基真空固结失效的原因,本文先对不同地区新近吹填淤泥的工程特性进行系统地研究,并采用3 种典型的竖向排水体进行室内真空固结单井模型对比试验研究,然后提出相应的解决对策。
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真空冷冻和热风干燥对蓝莓品质的影响
研究真空冷冻干燥和热风干燥处理对蓝莓品质的影响,本实验以蓝莓为原料,应用真空冷冻干燥技术对蓝莓进行处理,为评价该方法对干燥蓝莓产品品质的影响,选择热风干燥与其对比研究,旨在为该技术在蓝莓加工上的应用和
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浅析真空粉末上料机的发展优势
上料机的使用主要在化工、制药、食品、冶金、农副等行业中,在上料机的使用过程中不免存在粉末颗粒传输过程中的污染外溢,或者传输距离长短等的干扰,真空上料机的出现给这些指出了解决思路。
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应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析
本文比较分析了不同磁场辅助受控弧源的靶结构、磁场位形及产生机制,讨论了不同位形的磁场对弧斑运动、放电的影响以及由此导致的镀膜工艺的优缺点等,对磁场控制的电弧离子镀弧源的发展进行了展望。
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脉冲偏压对多弧离子镀TiAlN薄膜的成分和结构的影响研究
本文在实验中固定直流偏压为100V,叠加不同的脉冲偏压和不同占空比下成功制备了TiAlN薄膜,并对薄膜的微观结构、原子组成和力学性能进行讨论和总结。
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基底预处理对非晶碳/Mo2C复合薄膜场发射性能的影响
本文采用机械研磨方法对Al2O3陶瓷衬底进行预处理,采用直流磁控溅射技术在基底上溅射Mo过渡层,随后在微波等离子体增强化学沉积(MPECVD)系统中沉积非晶碳薄膜,研究了不同粒度金刚砂研磨基底对所制备样品的场发射性
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复合高功率脉冲磁控溅射放电等离子体特性
本文采用脉冲与直流电源并联模式的复合HIPIMS,针对Ti、Cr靶研究脉冲电压对复合HIPIMS 过程中的靶电压、靶电流、电子密度(Ne)、电子温度(Te)、等离子体电势(Vs)以及基体电流等微观参数的影响。
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背电极ZnO:Al薄膜与n-a-Si:H膜接触特性的研究
本文采用PECVD法在ZnO:Al薄膜上沉积了n-a-Si:H薄膜,接着分别用电子束蒸发和磁控溅射法在n-a-Si:H薄膜上制备ZnO:Al薄膜,并对ZnO:Al薄膜与n-a-Si:H薄膜的电接触特性进行了研究,从而找到ZnO:Al薄膜的最优化条
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TiO2薄膜元件阻变机理的模拟研究
本文从模拟计算的角度对TiO2薄膜阻变机理进行研究,这在阻变机理推导研究中鲜见报道。通过将计算模拟结果分析得出的推断与本课题组先前实验研究得出的结论进行比较,可获得更全面的阻变机制解释。
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LHT-100霍尔推力器滤波设计与放电震荡关系研究
本文针对霍尔推力器放电震荡现象问题,分析了引入滤波模块的必要性。通过仿真和设计研制出了专门的滤波单元,最终通过电源处理单元、滤波单元与霍尔推力器的地面集成试验对霍尔推力器放电震荡抑制效果进行了验证。
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