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推荐电镀污水中有机污染物去除工艺

电镀废水中的有机污染物来源主要有3个方面：镀前处理、电镀过程和镀后处理。污水中有机污染物的3种去除方法：生化法、微波化学法和物化法。

VOx/TiOx/Ti多层薄膜的制备工艺与内耗研究

用磁控反应溅射法在玻璃和钼片衬底上制备VOx/TiOx/Ti多层薄膜。用X射线衍射(XRD)、QJ31单臂电桥、薄膜内耗仪等测试了薄膜的晶体结构、电阻、内耗。
一种全自动超高真空电子束蒸发薄膜生长系统

由于薄膜生长均匀、沉积速率和膜厚易控、可制备大面积薄膜等特点，电子束沉积技术在超导薄膜、多层巨磁阻薄膜、超晶格薄膜中得到了深入研究。
氧离子束流密度对Ta2O5薄膜的影响

研究了低能量离氧子束流密度在离子辅助电子束蒸发沉积Ta2O5薄膜中的作用.
热处理工艺对H13钢组织和力学性能的影响

本文比较了H13钢经盐浴分级淬火和真空高压气淬的淬火态的力学性能,分析了造成力学性能差异的原因。
真空镀铝纸与薄膜的气体透过率测试方法

作为阻隔性材料的真空镀铝纸和膜，通常以氧气透过率和水蒸气透过率两项指标来考核其阻隔性能。
准分子激光引起的非晶硅薄膜晶化行为的研究

利用KrF准分子激光对非晶硅薄膜的表层进行了晶化。研究了激光能量密度和照射脉冲数对薄膜结晶度的影响，并对晶化后薄膜的形貌和结构进行了表征。
塑料表面溅射电磁屏蔽膜的研究

本文采用磁控溅射技术在聚酯塑料上制备出附着力大于5MPa、2GHz~4GHz频率范围内屏蔽效能大于60dB的复合结构的电磁屏蔽膜，并研究了导电膜、导磁膜及其复合膜层的电磁屏蔽特性。
基底温度对四元叠层硒化法制备铜铟镓硒(CIGS)薄膜的影响

利用四元叠层硒化法制备了铜铟镓硒（缩写为CIGS）薄膜，重点分析了在叠层法制备CIGS薄膜过程中，基底温度对CIGS薄膜的晶体结构，表面形貌以及各种元素沿深度分布的影响。
不同测试条件下TiN薄膜的摩擦学特性研究

采用电弧离子镀技术在45#钢衬底表面沉积了TiN薄膜。用不同的仪器测试了在不同条件下TiN薄膜的摩擦学特性。
PI衬底上电沉积Cu薄膜的晶面择优取向

采用硫酸盐电沉积法，利用X 射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)等手段研究了不同电沉积条件下在PI膜表面制备的Cu薄膜的晶面择优取向、平均晶粒尺寸及表面形貌。
SiO2薄膜制备的现行方法综述

SiO2薄膜的现行方法主要有磁控溅射、离子束溅射、化学气相沉积、热氧化法、凝胶－溶胶法等。本文系统阐述了各种方法的基本原理、特点及适用场合，并对这些方法做了比较。
直流反应磁控溅射在3003铝箔表面制备薄膜的研究

为有效提高3003铝箔表面光泽度、比面积及强硬度，采用直流反应磁控溅射的方法，在一定溅射参数条件下，选用高纯钼靶和钛靶对3003铝箔进行溅射实验。
基于PLC的真空蒸发废油处理自动控制

本文介绍了PLC 在废油处理设备自动控制系统中的应用。主要介绍了真空蒸发工艺及PC—PLC控制系统的主要功能等。
宽光谱监控法镀制高精度增透膜的研究

本文介绍了使用宽光谱监控系统镀制增透膜的基本原理和技术特点，宽光谱光学镀膜监控系统在镀制宽带增透膜等宽带产品方面具有特有的优势。
制盐工业水泵与风机起动方式的选择

介绍了电动机全压起动的优点，对全压起动和各种降压起动的特点进行分析比较，同时介绍了起动方式选择要点及起动方式选择误区。
电磁热泵技术在真空制盐中的应用及其节能研究

电磁热泵具有泵和电机之间无轴传动、安全静密封、永不泄露及一体化的特点。本文在简要介绍电磁热泵技术性能和特点的基础上将其创造性的应用于真空制盐系统中，从而达到节能目的。
一种崭新的镀膜技术——等离子体束溅射

详细描述一种等离子体高效溅射系统及应用工艺。此种崭新的溅射技术结合了蒸发镀的高效及溅射镀的高性能特点, 特别在多元合金以及磁性薄膜的制备, 具有其他手段无可比拟的优点。
新型等离子体束溅射镀膜机

本文介绍了新型的等离子体束溅射镀膜机的系统组成、特点、试验结果等内容。该镀膜机将等离子体发生和控制技术应用于溅射镀膜中，克服了磁控溅射的靶材利用率低及难以沉积铁磁性材料的缺点。
电子束蒸发制备CdS多晶薄膜及性质研究

采用电子束蒸发工艺在普通玻璃衬底上制备了硫化镉(CdS) 多晶薄膜,研究了不同衬底温度对薄膜结构、表面形貌及光透过率的影响。
固溶体半导体Zn1-xMgxS薄膜性质研究

以ZnS、Mg粉末为原料,应用双源真空蒸镀法,在石英玻璃衬底上成功地制备了不同Mg含量x的三元固溶体半导体Zn12xMgxS 薄膜。