真空镀膜_真空镀膜原理_溅射镀膜_气相沉积

真空镀膜

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电镀废水中的有机污染物来源主要有3个方面：镀前处理、电镀过程和镀后处理。污水中有机污染物的3种去除方法：生化法、微波化学法和物化法。

辅助离子束功率密度对透明塑料上室温磁控溅射沉积ITO薄膜结构和形貌的影响

基于双极脉冲磁控溅射复合离子束辅助沉积的新工艺,在透明塑料聚碳酸酯基片上,常温制备了透明导电的铟锡氧化物(ITO)薄膜.重点研究了不同辅助离子束功率密度对ITO薄膜晶体结构和表面形貌的影响。
磁控溅射光学膜均匀性改进

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反应磁控溅射的机理与特性

采用PVD方法制备介质薄膜和化合物薄膜，除了可采用射频溅射法外，还可以采用反应溅射法。即在溅射镀膜过程中，人为控制地引入某些活性反应气体，与溅射出来的靶材物质进行反应沉积在基片上，可获得不同于靶材物质的
中频脉冲非平衡磁控溅射技术制备类金刚石膜的结构与性能

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杆状氧化铍表面金刚石薄膜的生长

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