H2S气氛下硫化温度对Cu2ZnSnS4薄膜性能影响的研究

本文采用两步法制备CZTS薄膜。

有机溶剂对氧化铋纳米结构形貌和场发射性能的影响

为了研究有机溶剂对化学合成法中生成的氧化铋纳米材料结构及场发射性能的影响，反应过程中，分别添加三个不同剂量的有机溶剂，获得三种产物。利用扫描电镜对其结构进行分析，并进行场发射性能测试。

氧化处理TiNi合金薄膜的摩擦性能及其对滚动直线导轨滚道的防护

本文采用两种不同氧化工艺实现TiNi 薄膜的氧化处理。利用球-盘式摩擦实验机考察了干摩擦条件下表面氧化处理后TiNi 薄膜的摩擦学性能，并镀制到导轨表面，期望提高导轨的减摩耐磨性能，从而提高其传动和定位精度。

脉冲偏压对离子束辅助电弧离子镀TiN/Cu纳米复合膜结构及硬度的影响

本文采用离子束辅助电弧离子镀技术在高速钢(HSS) 基体上沉积TiN/Cu纳米复合膜，研究基体脉冲偏压幅值对TiN/Cu纳米复合膜的成分、结构及硬度的影响。

脉冲电压对HPPMS制备CrN薄膜的组织结构与力学性能的影响

本文采用HPPMS技术制备CrN硬质薄膜，重点研究电源脉冲电压对CrN薄膜的结构和性能的影响。

离子能流密度对AISI304不锈钢氮化层摩擦性能的影响

采用低温等离子体氮化技术，对AISI304不锈钢进行表面氮化处理，考察了离子能流密度对不锈钢氮化层性能的影响。

基体放置状态与脉冲偏压幅值对大颗粒形貌和分布的影响

本文通过改变基体上施加的脉冲偏压幅值、靶基面相对位置和基体的放置状态，来研究这些参数对电弧离子镀中大颗粒缺陷数目和分布的影响规律，为选择合适的靶基表面相对位置和脉冲偏压幅值，减少甚至消除大颗粒引起薄膜

(TiAlNb)N多组元硬质反应膜研究

采用多弧离子镀技术，通过采用Ti-Al 合金靶及Ti-Nb靶的组合方式，在高速钢基体上制备了(TiAlNb) N多组元硬质反应膜。

类金刚石碳膜高温摩擦学性能的研究进展

本文综述了近年来国内外高温工况条件下类金刚石碳膜的摩擦学性能研究成果，总结了类金刚石碳膜在高温环境下的摩擦学性能及其影响因素规律，阐述了类金刚石碳膜高温摩擦学行为的分析方法，提出了类金刚石碳膜高温摩擦

Si3N4球/DLC膜摩擦副在真空环境下的摩擦学行为研究

本文研究了真空环境下DLC膜与Si3N4摩擦副的摩擦学行为，分析探讨DLC膜摩擦副在真空环境下的摩擦磨损机理，为DLC膜在真空环境下的应用提供理论依据。

(Ti，Al，Si，C)N硬质膜层高温性能研究

采用等离子增强电弧离子镀联合磁控溅射工艺制备了含35%(原子比)C的(Ti，Al，Si，C)N硬质膜层，并利用扫描电镜、X射线衍射仪及高温摩擦磨损试验仪表征了膜层在不同退火条件下的性能及组织演变行为。

银基透明导电薄膜制备及其性能研究

本文采用磁控溅射沉积，通过优化Ag层与上下介质层膜厚，获得了ZnO/Ag/ZnO、AZO/Ag/AZO 体系的三层透明导电薄膜，并且在Ag与氧化物界面插入超薄LiF或Al来探究该体系多层膜的热稳定性。

航天薄膜材料力学性能评价及误差分析研究

通过理论分析与试验研究，从薄膜材料、样品加工、拉伸试验及模拟试验四个角度，对空间环境下薄膜材料力学性能退化试验的误差来源及影响进行了研究。

电场仪球形传感器涂覆方案研究

电场仪涂层的均匀性是影响其电场测量精度的重要因素，手工喷涂方案难以满足涂层的均匀性需求，且工艺不稳定。为解决电场仪球形传感器涂层喷涂的均匀性问题，提出了一种新的喷涂方案。

不同氢浓度对超纳米金刚石膜结构及耐磨性影响的研究

MPCVD金刚石膜沉积技术及金刚石膜材料在微波电真空器件中的应用

本文将首先简述MPCVD方法沉积金刚石膜的原理，进而介绍国内外MPCVD金刚石膜沉积技术的发展现状以及MPCVD方法在制备高品质金刚石膜材料方面的应用情况。

离子镀膜技术的进展

本文介绍了离子镀膜技术的意义、各种镀膜技术的原理、特点、发展和应用范围。

TiO2薄膜光电导与光催化性能关系的研究

采用溶胶-凝胶法在石英基板上旋涂制备不同系列的TiO2薄膜样品(掺F浓度、保温时间、薄膜厚度、晶型) ，并用X射线衍射等分析测试手段对样品的结构等性能进行表征。

Sol-gel法制备Co-Mn共掺杂ZnO粉体和红外发射率的研究

采用溶胶-凝胶法制备不同Co-Mn共掺杂浓度的ZnO前驱体，并在不同温度下对其进行煅烧。

无硫化过程磁控溅射制备Cu2ZnSnS4薄膜及其结构和光学性质研究

使用Cu2ZnSnS4(CZTS) 靶材，通过射频磁控溅射方法镀膜，不经后期硫化处理，在钠钙玻璃衬底上沉积了锌黄锡矿结构的CZTS薄膜材料。