膜层的光学薄膜参数测量方法研究

简述了研究膜层光学薄膜参数测量方法的必要性。详细介绍了各种测量方法的理论思想、测量准确度、测量范围。综合比较了各种测量方法的优缺点和适用性，研究了测量不同类型薄膜系统膜层光学薄膜参数的最佳测量方法。最

冷水机在真空镀膜工艺中的作用

冷水机能控制真空镀膜机的温度，以保证镀件的高质量。冷水机在真空镀膜工艺中的作用是非常重要的。

氧化镍薄膜阻变特性研究进展

本文从器件结构、开关机理及掺杂等方面对近年来NiO薄膜阻变特性研究进行了综述与分析，并对阻变存储未来发展趋势及面临的挑战进行了展望。

离子束辅助磁控溅射沉积CrNx薄膜结构以及力学性能研究

本文采用离子束辅助磁控溅射制备CrNx薄膜，研究了不同氮气流量下薄膜的微形貌、组织结构以及硬度、弹性模量的变化，分析了离子束辅助对反应磁控溅射沉积CrNx薄膜的影响。

栅极绝缘层和有源层沉积工艺的优化对TFT特性的影响研究

本文针对AL层的SiH4和H2流量、压力、间距以及功率设计了5因子2水平的1/4的部分因子实验，确定了AL层提升Ion的最佳的沉积条件，在AL层的最佳的沉积条件的基础上，设计GL层的NH3流量和功率的全因子实验。

类金刚石膜-磨粒滑动接触过程的有限元分析

本文采用ANSYS有限元软件分析磨粒与DLC膜表面滑动接触的整个过程，研究DLC膜表面接触区域的相关应力和应变的变化特点，力图为DLC膜的表面磨损机理研究以及抗磨设计提供相关理论依据。

SiCOH低k介质中低表面粗糙度沟道的刻蚀研究

本工作以获得具有完整剖面结构的低表面粗糙度沟道为目标，采用C2F6/O2/Ar双频容性耦合等离子体，开展了SiCOH低k介质中沟道刻蚀的研究。

电泳沉积碳纳米管场发射阴极研究进展

本文将介绍电泳法的主要技术工艺与发展，以及基于电泳技术的碳纳米管薄膜材料在场电子发射阴极的研发新进展。

DC-HCPCVD法高CH4流量下纳米金刚石膜的制备及生长特性研究

本文在CH4/H2气氛下，在高CH4流量(8sccm~12sccm)下制备纳米金刚石膜，研究所得纳米金刚石膜的形貌与结构，扩展直流热阴极PCVD法纳米金刚石膜制备工艺。

Cr层厚度对Pd/Cr/Co多层膜光学性质的影响

本文对Pd/Cr/Co多层膜的光学常数进行了测量，并研究了Cr插层的厚度对多层膜光学性质的影响。

铜铟镓硒薄膜太阳电池的研究进展

综述了国内外铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳电池的研究现状。

双靶磁控溅射共沉积V-C-Co薄膜的结构及力学性能

工作压强对辉光放电聚合物薄膜化学结构与表面形貌的影响

本文研究了工作压强对GDP薄膜表面形貌与化学结构的影响。利用功率谱密度(PSD)曲线对薄膜表面形貌进行全频谱分析，计算了与薄膜形貌生长相关的参数。

低气压射频空心阴极放电氩等离子体发射光谱分析

本文以射频空心阴极放电等离子体为研究对象, 重点研究低于10Pa气压的放电工艺参数对于发射光谱的影响规律。

电子回旋共振等离子体辅助原子层沉积金属铝薄膜的研究

本文在电子回旋共振等离子体辅助下，以三甲基铝为铝源，氢气为还原剂，通过将它们交替通入反应腔内，成功制备了金属铝薄膜，研究沉积参数对Al薄膜的性能和结构成分的影响。

衬底温度对ZnO:Al薄膜热电性能影响的研究

本文采用AZO陶瓷靶，用直流磁控溅射的方法在不同温度的玻璃衬底上生长AZO薄膜，通过对所制备薄膜进行微结构、热电性能的检测和分析，研究衬底温度对所制备的AZO薄膜热电特性影响的变化规律。

掺杂对ZnO溶胶凝胶薄膜光电特性影响的研究进展

ZnO作为一种重要半导体材料，在光电领域具有广泛应用前景。本文从第一性原理理论计算和实验方面综述了掺杂对ZnO薄膜光电特性的影响。

真空蒸发制备CdSexTe1-x薄膜及其性能研究

按不同比例混合CdTe和CdSe两种化合物，利用真空蒸发法在玻璃衬底上制备了CdSexTe1-x三元化合物薄膜，分别利用XRD、SEM、EDX、XPS、紫外-可见分光光度计对薄膜的物相结构、表面形貌、元素组成以及光学性能进行了测试

中间层类型对类金刚石涂层界面结合性能和抗磨损能力的影响

大颗粒缺陷在电弧离子镀所制备薄膜中的分布状态研究

针对电弧离子镀制备薄膜产生的大颗粒问题，本文主要研究了大颗粒在薄膜中的分布状态。