真空镀膜_真空镀膜原理_溅射镀膜_气相沉积

真空镀膜

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电镀废水中的有机污染物来源主要有3个方面：镀前处理、电镀过程和镀后处理。污水中有机污染物的3种去除方法：生化法、微波化学法和物化法。

光学级CVD金刚石膜的研究进展与应用

首先介绍了光学级CVD金刚石厚膜和薄膜的制备，随后指出了国内外光学级CVD金刚石膜的研究进展，最后进行了光学级CVD金刚石膜的前景展望。
Cu含量对脉冲偏压电弧离子镀TiN-Cu纳米复合薄膜硬度的影响

用脉冲偏压电弧离子镀技术在高速钢基体上制备了一系列不同Cu含量的TiN-Cu纳米复合薄膜，分别测试了薄膜的成分、形貌、相组成、硬度和弹性模量，重点考察薄膜成分对其硬度和弹性模量的影响。
一种新型楔形膜在真空中的制作方法及测试结果

提出了一种新型楔形膜在真空中的制作方法，可以替代白光干涉位移传感器中的关键元件。
ZSN-800AG2电子束蒸发镀膜机程序化自动控制系统的设计

本文对ZSN-800AG2电子束蒸发镀膜机的控制系统进行了设计，重点对应用iFix 组态软件实现工艺过程用户可编程序化的动控制方法设计以及数据存储和趋势曲线显示等做了设计分析，完成了整机的工艺试验。
Si90Al10Nx薄膜的工艺控制及光学性能研究

通过改变磁控溅射过程中氩气与氮气的分压比，制备了多种不同厚度的Si90Al10Nx薄膜样品，并采用透射率轮廓法对样品在热处理前后的光学性能进行了测量和分析。
温度对磁控溅射氮化钛薄膜光学性能的影响

本文采用能量过滤磁控溅射技术，通过改变沉积温度在玻璃衬底上制备了一系列TiN 薄膜。利用XRD进行了物相鉴定，使用分光光度计、椭圆偏振光谱仪和四探针电阻仪测试了TiN 薄膜的光学性能。
基于正交试验法TiO2纳米薄膜的制备及光电性能的研究

以商业TiO2纳米粉为原料，将其充分研磨得到胶体，用刮涂和热处理的方法在氟掺杂氧化锡导电玻璃基底上制备TiO纳米多孔薄膜阳极，并组装成染料敏化太阳能电池。
多弧离子镀TiN/TiCrN/CrN多元多层复合膜的制备及性能研究

采用XH-800多弧离子镀设备在硬质合金刀具表面制备TiN/TiCrN/CrN多元多层复合膜。
高速微晶硅薄膜沉积功率利用效率的测量与优化

为了实现低成本微晶硅薄膜的高速沉积，需要尽可能的优化工艺参数，特别是提高功率利用效率对于降低生产成本，以及提高工艺稳定性都具有重要的意义。
氧化镍溶胶-凝胶薄膜阻变特性研究

用溶胶-凝胶法在ITO基片上旋涂制备了NiO薄膜, 通过对ITO/NiO薄膜/GaIn器件进行伏安特性测试, 研究了溶胶浓度、退火、层数以及Cu掺杂等对其电学特性的影响。
溶胶-凝胶法制备Li掺杂ZnO纳米薄膜及其表征

采用溶胶-凝胶法在玻璃基底上制备了ZnOBLi薄膜。研究了薄膜厚度对薄膜结构及光电性能的影响。
新型弧光辉光协同共放电(APSCD)真空镀膜机的研制

本文阐述了新型的弧光辉光协同共放电真空镀膜机的设计思想及应用，叙述了镀膜机的整体结构、圆柱靶的设计和磁场模拟、工件篮的结构和辉光弧光共放电的原理。
氮气流量对电弧离子镀CrN薄膜组织结构和性能的影响

利用电弧离子镀技术在高速钢基体上于不同氮气流量条件下制备CrN薄膜样品，分析了薄膜的硬度、弹性模量、厚度、表面形貌和物相结构。
太阳能选择性吸收薄膜研究进展及展望

本文从太阳能选择性吸收薄膜的原理出发，对材料选择、吸收机理以及制备方法等方面进行了介绍，对限制太阳能选择性吸收薄膜性能的主要因素进行了分析。
太阳能选择性吸收薄膜的国内外发展现状

对太阳能选择性吸收薄膜的国内外发展现状进行了论述。
太阳能选择性吸收薄膜常用制备方法

太阳能选择性吸收薄膜常用的制备方法主要有化学镀、电化学沉积法( 电镀和阳极氧化法)、化学转换着色法、溶胶凝胶法、刷涂法、高频磁控溅射法、气相沉积法及等离子喷涂法等。
太阳能选择性吸收薄膜材料选择与吸收机理

金属、金属氧化物、金属硫化物和半导体等成为制备太阳能选择性薄膜的主要材质，形成了很多种类型的综合应用为主要类型的多种太阳能选择性薄膜。
太阳能选择性吸收薄膜的基本原理

物体的温度不同，在相同的波长下，吸收比也不等于发射率；不同的波长，物体的吸收比与发射率也不相等，这就是太阳能选择性吸收薄膜的最基本的理论依据。
磁传动式浮球液位计的设计及其在VPI中的应用

本文介绍了磁传动式浮球液位计的设计结构、原理、性能及其在VPI中的应用。
基片温度对脉冲激光沉积CNx薄膜的组织结构和摩擦学性能的影响

采用脉冲激光烧蚀氮化碳薄膜靶，在室温至450℃基片温度下制备了CNx薄膜。利用扫描电镜、X射线衍射仪、X射线光电子谱仪和拉曼光谱仪等对薄膜的形貌、结晶性和结合键状态进行了表征。