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真空镀膜

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推荐电镀污水中有机污染物去除工艺

电镀废水中的有机污染物来源主要有3个方面：镀前处理、电镀过程和镀后处理。污水中有机污染物的3种去除方法：生化法、微波化学法和物化法。

镍缓冲层对碳纳米管薄膜强流脉冲发射特性的影响

研究了镍缓冲层对碳纳米管薄膜在强流脉冲发射模式下的发射电流和发射稳定性的影响。
冷壁法制备大发射电流密度复合阴极及其性能研究

碳纳米管(CNT)又是场致发射阴极的首选材料，其在电子、机械和化学方面具有独特特性，有较低的逸出功，极高的纵横比，理论上可实现106 A/cm2 的场致发射电流密度。
平行排列的直立少层石墨烯的可控制备研究

直立少层石墨烯由于具有原子级尖锐的边缘，因而场发射增强因子较大，并具有优异的电子传输特性和二维的导热区域，使其在场发射器件上拥有很好的应用潜力。
不同金属衬底制备碳纳米管的生长差异及其场发射特性

基于碳纳米管冷阴极的平面光源、X 射线管和微波管等，具有一定的工业应用前景。
基于郎穆尔探针的低温低压等离子体诊断

朗缪尔探针因其结构简单、易于操作、可宽范围测定等离子体参数等优点，已经成为一种重要的等离子体诊断方法。
蒸发制备锌镁合金镀层中锌镁层的扩散研究

本文在镀锌钢板表面采用真空热蒸发镀镁, 再由快速退火工艺形成锌镁合金镀层。通过X 射线衍射、二次离子质谱和扫描电镜分析了在退火过程中锌、镁层的扩散过程, 并通过盐雾试验和电化学测试研究扩散过程对锌镁合金镀层
沉积气压对纳米晶硅薄膜晶化率与电输运性能的影响

采用热丝化学气相沉积法在不同气压( 1~8Pa) 下沉积了p型纳米晶硅薄膜, 研究了沉积气压对薄膜晶化率和电输运性能的影响。
等离子体加强化学气相沉积法(PECVD)制备石墨薄膜

本课题利用PECVD方法在铜箔上沉积出石墨薄膜。借助于光学显微镜，Raman 光谱，SEM 等手段对薄膜微观结构及成分进行了分析。
AlMgB14-TiB2 纳米复合涂层低摩擦机理的研究

为了进一步了解该复合涂层的微观润滑机制，使用磁控溅射技术分别制备了AlMgB14涂层和TiB2涂层，并使用共溅射技术制备了AlMgB14-TiB2纳米复合涂层。
超薄钼箔表面CVD金刚石薄膜残余应力的研究

采用周期性磁场辅助热丝化学气相沉积法，以甲烷和氢气为反应气体，在厚为40μm 的钼箔表面沉积金刚石薄膜。
一种钙钛矿结构薄膜材料复数光学常数的反演

获得一种钙钛矿结构镧锶锰氧La0.8Sr0.2MnO3薄膜材料的复数光学常数。
直流磁过滤电弧源沉积氧化铝薄膜的研究

采用直流磁过滤电弧源技术制备氧化铝薄膜，研究分析了薄膜制备中氧气分量和阴极靶电流分别对薄膜折射率n、沉积速率和消光系数的影响
高透可钢化离线Low-E镀膜玻璃耐钢化性能的研究

Low-E镀膜玻璃由于具有优异的节能性、良好的采光性、超强的环保节能性，使得Low-E 镀膜玻璃正在成为建筑市场的新宠儿。
表面形貌对薄膜疏水性能研究

本文采用多种工艺在钛合金基体上制备了不同疏水薄膜，通过AFM 及SEM 分析了薄膜的表面形貌，通过接触角测试法表征了薄膜的疏水性能和表面能，比较了不同表面粗糙度对薄膜疏水性能影响。
热丝CVD低温下快速制备碳化硅基硅纳米晶薄膜的研究

采用热丝化学气相沉积技术在低温下制备碳化硅基硅纳米晶薄膜。研究了CH4与总气体流量比R对薄膜生长过程及薄膜特性的影响。
多室镀膜机的结构特点与工业应用

介绍镀膜技术的分类、软硬衬底涂层设备的结构特点及多室系统、现代卷绕镀膜机单室、双室及三室的真空设计。
负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响

采用多弧离子镀设备在抛光后的高速钢表面沉积TiN 薄膜,在其他参数不变的情况下，着重考察偏压对薄膜的沉积速率的影响。
不同弧源电流TiN薄膜的表面形貌及其摩擦学性能研究

本文使用多弧离子镀膜设备，采用不同的弧源电流制备了TiN 薄膜，对其硬度、表面形貌以及摩擦系数等进行了测试，从电弧沉积的物理机制角度详细分析了弧源电流对TiN 薄膜表面熔滴的影响。
弧源电流对TiN薄膜摩擦系数的影响

本文讲述了弧源电流对TiN薄膜摩擦系数的影响。
弧源电流对TiN薄膜硬度的影响

本文讲述了弧源电流对TiN薄膜硬度的影响。