弧源电流对TiN薄膜沉积速率的影响

本文讲述了弧源电流对TiN薄膜沉积速率的影响。

弧源电流对TiN薄膜表面形貌的影响

本文讲述了弧源电流对TiN薄膜表面形貌的影响。

弧源电流对TiN薄膜结构影响的实验材料与方法

本文讲解了弧源电流对TiN薄膜结构影响的实验材料与方法。

TiO2/SiOxNy/SiO2层叠结构栅介质的电容-电压特性研究

本文讨论了以射频磁控溅射为主要工艺制备的TiO2/SiOxNy/SiO2结构高k栅介质。

磁控溅射法制备NiZnCo铁氧体磁性薄膜的后退火处理研究

研究了后退火处理对磁控溅射法制备NiZnCo 铁氧体磁性薄膜的成分、组织及性能影响。

硅在红外光学薄膜中的应用研究

介绍了硅的理化特性以及在光学薄膜设计中的应用特点。

Sn掺杂CdO透明导电薄膜的制备和光电性能研究

通过脉冲激光法在石英玻璃基底上沉积了锡掺杂氧化镉(Sn- CdO)透明导电薄膜。X 射线衍射，分光光度计和霍尔效应仪检测了薄膜的结构、光学和电学性能。

六种石墨烯的制备方法介绍

本文介绍了6种石墨烯材料的制备方法：机械剥离法、化学氧化法、晶体外延生长法、化学气相沉积法、有机合成法和碳纳米管剥离法等。

化学气相沉积法制备高质量石墨烯

利用液态铜的良好流动性及均匀性等特点消除了所得石墨烯的晶界，制备出了高质量大面积的单层石墨烯薄膜。

真空蒸发镀膜的蒸发源的种类及工作方式

蒸发源是用来加热膜材使之汽化蒸发的装置。目前所用的蒸发源主要有电阻加热、电子束加热、感应加热、电弧加热和激光加热等多种形式。

真空蒸发镀膜过程中的真空条件

增加残余气体的平均自由程，以减少其与蒸发粒子的碰撞几率，把真空室内抽成高真空是必要的。

真空蒸发镀膜的物理过程

金属薄膜表面微裂纹萌生行为的分子动力学研究

基于分子动力学,对连续载荷作用下的带有缺陷的铜金属薄膜进行模拟分析。

阳极氧化法制备壁垒型Al2O3绝缘膜的研究

采用阳极氧化法在Al膜上制备具有绝缘性能的壁垒型Al2O3膜,研究不同成分比例的电解液、阳极氧化电压对壁垒型Al2O3膜性能的影响。

气压及偏压对磁控溅射TaN薄膜力学性能影响

采用电子回旋共振增强磁控溅射在不锈钢基体上制备六方相TaN薄膜,并研究了气压及偏压对TaN薄膜结构、力学性能的影响。

纳米α-Fe2O3的原位生长及其场发射性能研究

采用空气热氧化法在铁基片上原位生长纳米α-Fe2O3,并通过扫描电镜、X射线衍射、场发射等对600℃下氧化不同时间所制得样品的形貌、结构、场发射性能进行表征和分析。

离子镀Ti(1-x)AlxN涂层的形貌及力学性能研究

等离子体辅助铝诱导纳米硅制备多晶硅的研究

将纳米硅诱导源和等离子体辅助退火工艺相结合, 对于铝诱导法获得大晶粒、高质量的多晶硅薄膜具有十分重要的意义。

WC/DLC纳米多层膜微观结构研究

阳极层流型气体离子源与非平衡磁控溅射复合技术沉积制备WC/DLC纳米多层膜,并在膜/基间设计了中间过渡层。

La掺杂对CdS薄膜性能的影响

采用化学水浴法在玻璃衬底上制备了纯CdS薄膜和稀土La掺杂的CdS薄膜,在氮气气氛中对薄膜进行热处理