ZnSe光学薄膜对GaAs表面特性的影响

用GaAs衬底表面模拟半导体激光器的解理腔面, 研究了不同的光学薄膜对GaAs表面特性的影响。

真空制镜机功能的开发

用制镜机作装饰镀的关键是镀件在真空室体中的安装和相应的蒸发源的布置。总结了不同类型镀件的安装与蒸发源的布置方法。

电弧离子镀的旋转横向磁场弧源设计

本文提出了电弧离子镀工艺一种新的旋转横向磁场的设计思路, 通过频率和强度可调且覆盖整个靶面的旋转横向磁场控制弧斑的运动。

基于多晶硅的曲面高反膜研究

本文提出并初步实现一种提高等离子显示面板(PDP) 出光率的多层干涉型反射膜。

磁过滤阴极电弧技术沉积高sp3键含量四面体非晶碳薄膜的工艺优化研究

通过对不同基片偏压下磁过滤器电流对四面体非晶碳( ta-C) 薄膜sp3键含量影响的研究, 探讨了磁过滤阴极电弧技术制备高sp3 键ta-C 薄膜优化工艺条件。

硬质合金表面TiAlZrCr/(Ti,Al,Zr,Cr)N梯度膜的微结构与力学性能

采用多弧离子镀技术, 使用Ti-Al-Zr合金靶和Cr单质靶, 在WC-8%CO硬质合金基体上制备了TiAlZrCr/(Ti,Al,Zr,Cr)N多组元梯度膜。

晶体结构对Er/Yb共掺TiO2薄膜荧光光谱的影响

通过对不同退火温度下Er/Yb共掺TiO2薄膜的结构和光致荧光光谱(PL) 的分析, 研究了退火处理所导致的晶体结构变化对薄膜荧光光谱的影响。

涂层结构对Ti-Al-N涂层氧化行为的影响

低出口压力下喷嘴内部空化流动模拟分析

本文以真空喷射法制备聚合物薄膜为出发点, 利用Ansys Fluent 和Gambit 软件对低压力下平口喷嘴内的空化流动进行了模拟分析。

覆Os膜M型阴极高发射性能随真空度变化的研究

本文开展了覆Os膜M型阴极高发射性能随真空度变化的研究相关模拟研究。

Al2O3-Cr多层中高温选择吸收薄膜的研究

本文提出基于Al2O3 介质和金属Cr 的多层结构的选择吸收膜系, 首先采用电子束热蒸发在硅基底上沉积了单层Cr 薄膜, 通过椭偏仪测试并分析了Cr 薄膜的光学常数。

15-5PH不锈钢基体上硬质膜层制备及性能研究

对比不同的表面处理工艺, 选择多弧离子镀方法在15-5PH不锈钢基材表面制备TiN 硬质涂层。

平口喷嘴的真空射流雾化模拟分析

基于breakup 和collision 液滴破碎模型采用Fluent 和Gambit 软件对平口喷嘴的真空射流雾化进行了模拟, 研究了环境压力、喷射压力和喷嘴直径等参数对射流雾化结构和液滴索特平均直径的影响。

基于双层TiO2复合ZnO薄膜电池的制备及光电性能的研究

制备致密二氧化钛薄膜，并结合水热法在致密薄膜上制备多孔二氧化钛薄膜，然后再制备成TiO2/ZnO复合薄膜，将所制得的复合薄膜分别作为光阳极制备成染料敏化太阳能电池。

脉冲叠加直流偏压电弧离子镀TiCrNx薄膜的制备与性能研究

采用脉冲叠加直流偏压电弧离子镀技术在硬质合金刀具表面制备TiCrNx 薄膜，利用XRD，SEM，多功能材料表面性能测试仪等对TiCrNx 薄膜进行表征。

PLD法制备NiO薄膜及结构和形貌的研究

利用脉冲激光沉积法(PLD)在Si 衬底上制备NiO 薄膜，利用X 射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对所制备薄膜的晶体结构和表面形貌进行表征分析。

真空蒸发制备Sb掺杂CdTe薄膜

采用真空蒸发技术在玻璃衬底上制备了Sb掺杂的CdTe薄膜，Sb掺杂使得薄膜表面更加均匀致密，也使薄膜的带隙宽度有所减小，大大降低了薄膜的电阻率。

采用改进型多弧离子镀膜设备镀制装饰膜层的研究

本论文以装饰镀膜中常用的二氧化钛膜为研究对象，对比了设备改进前后膜层的性能。

真空条件下物质的蒸发特点

本文讲述了真空条件下常见物质的蒸发特点。

具备光吸收增强效应的银纳米颗粒层的制备及性能研究

本文利用热蒸发退火的方法制备Ag 纳米颗粒，通过扫描电子显微镜，观察在洁净硅片表面热蒸发制备出的薄膜厚度和退火得到的纳米颗粒阵列的分布情况