真空技术在工业上应用

真空应用

真空技术网>真空应用>

推荐电镀污水中有机污染物去除工艺

电镀废水中的有机污染物来源主要有3个方面：镀前处理、电镀过程和镀后处理。污水中有机污染物的3种去除方法：生化法、微波化学法和物化法。

基于反应气体和生长温度的Nb掺杂TiO2薄膜相图研究

应用射频磁控溅射设备在超白玻璃和石英玻璃等非晶基体上生长Nb 掺杂TiO2薄膜。
敏感陶瓷表面溅射金属化研究

本文的目的在于通过在NTC热敏电阻表面制备溅射膜Ni /V-Ag 电极来研究NTC敏感陶瓷表面溅射金属化的可行性。
聚碳酸酯表面碳基薄膜的制备及其光学性能研究

本文采用RFPECVD技术在PC材料表面沉积DLC薄膜，研究DLC薄膜和PC基片系统的摩擦学和光学性能。
立方氮化硼薄膜的制备及研究

本文采用过渡层技术，在硅片上先沉积三元BC-N过渡层，再沉积c-BN层，有效地降低薄膜内应力，实现了c-BN厚膜的制备。同时，本文也对薄膜的结构、成分、表面状态和纳米硬度进行了表征。
Ti6Al4V表面沉积TiCN薄膜的结构及水环境中的摩擦学性能

本文即采用多弧离子镀技术在Ti6Al4V合金表面沉积TiCN薄膜，研究了该薄膜的形貌、结构以及在干摩擦、水和海水环境条件下的摩擦学行为。
氮氧化铪薄膜力学与光学特性研究

氮氧化铪薄膜作为多元化合物，讨论N、O 不同化学计量比对其力学和光学性能影响就具有重要意义。
沉积角度对激光沉积类金刚石膜的影响

本文通过倾斜衬底而不是移动或倾斜靶材来改变激光沉积类金刚石膜的沉积角度，因此等离子体的动能和分布不受影响。
硫渣真空蒸馏的实验探究

本文采用真空蒸馏的方法，利用锡与硫化亚铜在真空高温下进行反应，得到硫化亚锡与金属铜，其中硫化亚锡在此条件下全部挥发，从而实现硫渣中锡铜分离回收的目的，为硫渣处理的新方法提出了思路。
真空精炼提纯工业硅除钙研究

本文在真空挥发精炼除钙理论研究的基础上，开展了工业硅真空挥发精炼除钙的实验研究，考查了精炼时间、精炼温度等因素对钙去除效果的影响。
MgO/Au复合薄膜的反应射频磁控溅射法制备及表面形貌研究

本文采用反应射频磁控溅射法制备MgO/Au复合薄膜，比较了Mg靶和Au靶共溅射、分步溅射制备复合薄膜的表面成分及形貌，研究了溅射时衬底温度和Ar/O2气体流量比对薄膜晶粒分布、晶粒尺寸和结晶取向的影响。
MIVM在真空蒸馏分离铝硅合金中的应用

为真空蒸馏分离铝硅合金提供了可靠的理论依据及预测模型，对于研究铝硅合金中铝的分离限度具有重要参考作用。
NiFeNb缓冲层和NiO插层对坡莫合金薄膜各向异性磁电阻的影响

为了研制出高精度的地磁导航系统，必须开发出对弱磁场及方位都敏感的磁性材料-坡莫合金薄膜。
航空透明件导电膜用纳米耐磨保护涂层研究

本文以紫外光固化树脂为有机相，采用溶胶- 凝胶法制备出纳米SiO2为无机相，研制出与有机玻璃飞机透明件导电膜匹配的耐磨保护涂层。
钢铁基体沉积金刚石膜的研究进展

本文对不同成分和组织钢铁基体化学气相沉积金刚石膜的影响因素进行了分析，综述了钢铁表面化学气相沉积金刚石膜的国内外研究现状，指出了今后钢铁上沉积金刚石膜的发展方向。
基于氧化锡薄膜的表面传导场致发射阴极阵列的制备及性能研究

利用磁控溅射和阳光刻技术在玻璃基底上成功制备了不同厚度SnO2的表面传导场致发射阴极阵列，并测试其场致发射性能。
真空冶金法处理脆硫铅锑矿分离铅锑的新工艺研究

本文从理论上简单分析了采用真空冶金法处理脆硫铅锑矿分离铅与锑新工艺的可行性，并对该新工艺中影响铅与锑分离效果的温度、时间等因素进行了讨论。
真空管道交通系统超音速状态下熵层的研究

基于粘性流体k-ε双方程湍流模型，建立真空管道交通系统三维数学模型和物理模型，并在超音速状态下对所建模型进行数值模拟。
SiC颗粒增强铝基复合材料的真空钎焊性研究

选用Pb80Sn20钎料，对体积分数20%的SiCP/A356复合材料进行真空钎焊，分析了表面镀镍和不镀镍对其真空钎焊性的影响，并通过金相显微、能谱分析等手段研究了保温时间对其钎焊接头组织的影响。
126kV模块化三断口真空断路器静、动态均压设计

采用有限元法计算了U型三断口真空断路器的分布电容参数，并通过工频分压特性试验验证了计算的准确性，根据静态分压比计算结果选择了合适的静态均压电容值。
用于真空热处理炉的石墨电热元件性能分析

本文将应用理论分析和仿真分析相结合的方法科学的评价石墨作为电热元件的优缺点，为真空电热元件的设计提供依据。