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液态金属离子源在航天器电位主动控制的应用
着重介绍了液态金属离子源型电位主动控制在低密度等离子体空间测量中的典型应用,对以后的空间环境探测中自主研发液态金属离子源主动控制装置以及航天器设计提供借鉴和依据。
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电场仪球形传感器涂覆方案研究
电场仪涂层的均匀性是影响其电场测量精度的重要因素,手工喷涂方案难以满足涂层的均匀性需求,且工艺不稳定。为解决电场仪球形传感器涂层喷涂的均匀性问题,提出了一种新的喷涂方案。
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微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法在碳纤维上制备碳纳米管
利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法在碳纤维上制备了碳纳米管,并在此基础上系统地研究了微波功率、反应时间、催化剂前驱体的吸附时间以及吸附浓度对碳纳米管生长的影响。
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MPCVD金刚石膜沉积技术及金刚石膜材料在微波电真空器件中的应用
本文将首先简述MPCVD方法沉积金刚石膜的原理,进而介绍国内外MPCVD金刚石膜沉积技术的发展现状以及MPCVD方法在制备高品质金刚石膜材料方面的应用情况。
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TiO2薄膜光电导与光催化性能关系的研究
采用溶胶-凝胶法在石英基板上旋涂制备不同系列的TiO2薄膜样品(掺F浓度、保温时间、薄膜厚度、晶型) ,并用X射线衍射等分析测试手段对样品的结构等性能进行表征。
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无硫化过程磁控溅射制备Cu2ZnSnS4薄膜及其结构和光学性质研究
使用Cu2ZnSnS4(CZTS) 靶材,通过射频磁控溅射方法镀膜,不经后期硫化处理,在钠钙玻璃衬底上沉积了锌黄锡矿结构的CZTS薄膜材料。
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溶胶-凝胶法制备柱状TiO2薄膜及其光催化性能研究
在石英基板上用溶胶-凝胶法旋涂制备单层厚度约为20 nm 的柱状晶形貌TiO2薄膜,并研究了退火温度对TiO2薄膜晶体结构、微观形貌、光催化活性能的影响规律。
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PLD制备CuAlO2薄膜的结构与性能研究
本文以致密的CuAlO2陶瓷为靶材,采用脉冲激光沉积技术在蓝宝石和石英衬底上制备CuAlO2薄膜,并对样品进行退火处理,研究退火条件对薄膜结构和性能的影响。
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氢化处理对Li-W共掺杂ZnO薄膜性能的影响
本论文主要通过对比讨论了Li-W 共掺杂( LWZO) 薄膜及LWZO:H 薄膜的结晶性能、表面形貌、光学性能的影响以及分析了氢化处理对LWZO薄膜的掺杂效率的影响。
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