-
PECVD法沉积氢化非晶硅薄膜内应力的研究
利用等离子体增强化学气相沉积技术在硅基底上沉积了氢化非晶硅薄膜,通过纳米压入仪、电子薄膜应力分布仪、傅里叶变换红外光谱仪等表征技术,研究了沉积时的工艺参数对薄膜内应力的影 响,对薄膜的本征应力、热应力进
-
Fe/Si多层膜经快速热退火合成β-FeSi2薄膜的研究
采用磁控溅射仪在高阻Si(100)衬底上沉积了[Fe(0.5nm)/Si(1.6nm)]120和[Fe(1nm)/Si(3.2nm)]60多层膜,并在Ar气气氛下进行了1000℃,10s 的快速热退火。
-
Al-C-N非晶薄膜结构及导电性研究
为了揭示Al-C-N 非晶薄膜的结构、导电性以及它们之间的关系,本文采用非平衡磁控溅射沉积技术在Si (100) 基体上沉积得到了不同Al含量的Al-C-N薄膜。
-
小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性研究
从圆平面靶磁控溅射的原理出发,针对圆形平面靶面积小于基片面积的特点进行分析,建立膜厚分布的数学模型,并利用计算机进行模拟计算,目的在于探寻平面靶材面积小于基片面积时影响膜厚均匀性的因素
-
大面积VHF-PECVD反应室喷淋式平板电极间电场和流场数值模拟
以大面积喷淋式平板电极甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)反应室为研究对象,利用FlexPDE和CFD-ACE+ 商业软件,对反应室电极间的电场和流场分布进行了数值模拟
-
磁控溅射法制备BiFeO3/CoFe2O4多铁性复合薄膜及其铁电铁磁性研究
用磁控溅射法在Pt/TiO2/SiO2/Si 衬底上成功制备了BiFeO3 (BFO)/CoFe2O4(CFO)层状结构磁电复合薄膜,测试结果显示此磁电复合薄膜在室温下同时存在铁电性和铁磁性
真空资讯
-
[ 行业动态 ]2021年《真空与低温》优秀科技论文评选结果
-
[ 技术应用 ]切割泵解决泵站堵塞问题
-
[ 真空产品 ]河见公司推出AL型污水泵
-
[ 真空企业 ]上海玉川真空技术有限公司
推荐阅读
热门专题
阅读排行
- 1等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术基础
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是借助微波或射频等使含有薄膜
- 2RF-CCP(电容耦合) 和RF-ICP(感应耦合)离子源的结
电容耦合方式是由接地的放电室(由复合系数很小的材料如石英做成)
- 3氧化锌(ZnO)薄膜的性能分析
从ZnO薄膜的晶体结构、光学性能、电学性能、光电特性、气敏特性
- 4真空镀铝工艺
真空镀铝是在真空状态下,将铝金属加热熔融至蒸发,铝原子凝结在
- 5电子回旋共振(ECR)离子源的工作原理
ECR离子源微波能量通过微波输入窗(由陶瓷或石英制成) 经波导或天
- 6化学气相沉积(CVD)的概念与优点
化学气相淀积CVD指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂
- 7六种石墨烯的制备方法介绍
本文介绍了6种石墨烯材料的制备方法:机械剥离法、化学氧化法、
- 8ITO 薄膜方块电阻测试方法的探讨
针对ITO 薄膜方块电阻测试方法,文章探讨了常规的四探针法与双电
- 9反应磁控溅射的工作原理和迟滞现象的解决方法
反应磁控溅射技术是沉积化合物薄膜的主要方式之一。沉积多元成分
- 10薄膜厚度对TGZO透明导电薄膜光电性能的影响
利用直流磁控溅射法, 在室温水冷玻璃衬底上成功制备出了可见光透