直流磁控溅射辉光等离子体的Langmuir静电探针诊断

电子温度随着离靶面距离增大而递减;电子密度在径向和轴向均存在波动;电子能量主要分布在0 eV～5 eV范围内,高能电子占比例极少.

非平衡磁控溅射沉积TiN/Ti-O复合薄膜机械性能研究

利用非平衡磁控溅射设备,采用四种不同的TiN到Ti-O的过渡方式,在Si(100)和Ti6A14V基体上制备了TiN/Ti-O薄膜。

溅射角度对氧化铬薄膜性能结构的影响

硬质涂层对工件表面改性已经成为现代先进制造加工行业越来越重视的工艺,工件一般为复杂外形,保证工件表面涂层性能结构的一致性尤为重要。

辅助离子束功率密度对透明塑料上室温磁控溅射沉积ITO薄膜结构和形貌的影响

基于双极脉冲磁控溅射复合离子束辅助沉积的新工艺,在透明塑料聚碳酸酯基片上,常温制备了透明导电的铟锡氧化物(ITO)薄膜.重点研究了不同辅助离子束功率密度对ITO薄膜晶体结构和表面形貌的影响。

磁控溅射铁磁性靶材的主要方法

由于磁控溅射铁磁性靶材的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度，因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度。

磁控溅射铁磁性靶材存在的问题

合金膜的溅射沉积方法

为使溅射系统所用靶的数量减少，尽量用一个靶就能溅射沉积制取符合成分及性能要求的合金薄膜，可以采用合金靶、复合镶嵌靶、以及采用多靶溅射等。

非对称脉冲磁控溅射的工作原理

脉冲磁控溅射一般使用矩形波电压，由于所用的脉冲波形是非对称性的，因此得名为非对称脉冲磁控溅射。

磁控溅射中电磁场分布二维模拟

本文采用计算机FORTRAN语言自主编程，通过建立通电线圈磁场的数学模型，对磁控溅射靶附近由通电线圈产生的磁场分布进行了二维数值模拟计算。

太阳能选择性吸收涂层中铝靶拐点电压的影响因素分析

射频磁控溅射法ZnO薄膜制备工艺的优化

在采用射频磁控溅射在Si 和玻璃衬底上制备单层ZnO 薄膜时，薄膜会受到溅射功率、衬底温度、氧氩比以及工作气压等的影响。本文中将详细讨论这些因素对ZnO薄膜晶体质量，应力以及光学性能的影响。

氧分压对直流磁控溅射IGZO薄膜特性的影响

本文采用直流磁控溅射技术，在室温下通过改变氧分压的工艺条件制备了IGZO 薄膜，系统性的分析了氧分压对薄膜的物相结构、表面形貌、元素结合能及电学与光学等特性的影响。

沉积温度对磁控溅射制备V-Al-Si-N硬质涂层结构及性能的影响

本文利用磁控溅射的方法通过改变基片温度制备了不同沉积温度的V-Al-Si-N涂层，并利用X射线衍射(XRD) 、扫描电镜(SEM) 、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机对涂层的结构及性能进行了分析。

固体润滑轴承用9Cr18不锈钢离子注入与磁控溅射改性真空摩擦学研究

为了提高空间固体润滑滚动轴承耐磨寿命，采用全方位离子注入和磁控溅射技术对空间固体润滑轴承用9Cr18材料进行耐磨减摩表面改性研究。

偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB2基涂层结构及力学性能的影响

本文采用中频和射频电源的双靶磁控溅射设备通过改变基片偏压制备了不同偏压的TiB2-Ni涂层。对所制备的涂层进行了结构和性能的研究，探讨了偏压对其生长结构，以及硬度、断裂韧性、膜基结合力和摩擦学等方面的性能。

高温铝液中TiAlN硬镀层失效机理研究

本文以H13钢基体上的磁控溅射TiAlN镀层为研究对象，通过镀层在高温铝液中长时间浸蚀后对表面、截面形貌变化和成分分析等途径，探讨硬质镀层在高温铝液中的失效机理。

大曲率球形基底表面膜厚均匀性的实现

针对球形基底膜厚均匀性问题，提出了一种新的思路，设计改造了一种新型布局的磁控溅射设备，以解决大曲率球形基底外表面膜层的均匀性问题。

复合高功率脉冲磁控溅射放电等离子体特性

本文采用脉冲与直流电源并联模式的复合HIPIMS，针对Ti、Cr靶研究脉冲电压对复合HIPIMS 过程中的靶电压、靶电流、电子密度(Ne)、电子温度(Te)、等离子体电势(Vs)以及基体电流等微观参数的影响。

沉积时间对磁控溅射法制备宽禁带半导体薄膜材料ZnS物性及光学性质的影响

本文用磁控溅射法制备了ZnS薄膜，并对薄膜的物理性质及光学性质进行了细致的研究。为ZnS薄膜材料的进一步应用，提供了实验依据。

不同相结构Ti33Al67靶材磁控溅射薄膜对比研究

本文研究了一种成分相同，而相结构完全不同的Ti33Al67靶材沉积薄膜的性能，从微观角度探讨了两种靶材沉积薄膜性能产生差异的原因。