高功率脉冲磁控溅射制备TiNx涂层研究

本文利用高功率复合脉冲技术制备TiNx涂层，电源能量输出采用直流与脉冲叠加形式，主要研究氮气流量对膜层性能的影响，并与直流磁控溅射沉积涂层进行对比研究。

磁控溅射AlN/Cu纳米复合涂层的性能研究

本文通过双靶反应磁控溅射的方法制备得到了一系列Cu含量不同的A-lCu-N涂层，将Cu含量最高扩展到了17.0%。

基体偏压对高功率脉冲磁控溅射制备类石墨碳膜的影响研究

采用高功率脉冲磁控溅射技术于Si基底表面制备了类石墨碳膜, 研究了基体偏压对薄膜沉积速率、微观结构、力学性能及摩擦学性能的影响规律。

电子回旋共振波射频溅射系统设计

本文以ECWR技术为背景，介绍了一种电子回旋共振波射频溅射镀膜系统的设计。

复杂工件表面磁控溅射镀膜均一化控制的研究

介绍了复杂型腔工件表面薄膜涂覆机理与技术特点。

基于PLC的磁控溅射温度控制系统设计

本文以西门子S7-300可编程控制器(PLC)为控制核心，通过触摸屏构成人机交换界面(HMI)，论述了磁控溅射温度控制系统的性能特征与控制方法。

Cu层溅射时间对两种ZnO复合透明导电薄膜光电性能的影响

a-C:H膜在不同真空度下的摩擦学行为研究

随着真空度的升高，a-C:H薄膜的摩擦系数逐渐减小，磨损率逐渐增大。

本底真空度对磁控溅射法制备AZO 薄膜的影响

采用直流磁控溅射方法在平板玻璃基体表面沉积AZO薄膜，研究了本底真空度对薄膜厚度、方块电阻以及在300 ～1100nm波长范围内透过率的影响。

光谱拟合法确定一种钙钛矿结构薄膜材料的复数光学常数

为了获得一种钙钛矿结构镧锶锰氧薄膜材料的复数光学常数, 利用光学薄膜原理和数学优化方法,对磁控溅射技术制备的不同厚度的镧锶锰氧薄膜。

SrHfON高k栅介质薄膜的漏电特性研究

采用射频反应磁控溅射法在p-Si(100) 衬底上成功制备出SrHfON高k栅介质薄膜, 并研究了Au/SrHfON/Si MOS 电容的漏电流机制及应力感应漏电流(SILC)效应。

航天器柔性热控薄膜研究现状

环境至关重要。本文针对空间热控技术发展要求, 综述了国内外柔性热控薄膜材料的技术指标以及应用现状。

真空环境中多场耦合对Au/Cu/Si薄膜界面结构的影响

采用磁控溅射方法在Si基底上制备了Au/Cu薄膜。利用扫描俄歇微探针纳米化分析技术进行表面成分分析与深度剖析, 研究在真空环境中, 紫外辐照、微氧氧含量及处理温度等因素作用对Au/ Cu薄膜界面结构的影响。

离轴磁控溅射生长钙钛矿外延薄膜

本文从磁控溅射原理出发分析离轴磁控溅射相对于其他外延薄膜生长方式的优势, 介绍了离轴磁控溅射的发展。

可调脉冲功率(MPP)磁控溅射电源研制及放电特性的研究

可调脉冲电源MPP（modulated pulsed power）磁控溅射技术是一种新型的高功率磁控溅射技术。

直流磁控溅射中磁场强度和阴极电压对圆平面靶刻蚀形貌的影响

本文借助Comsol和Matlab软件模拟了直流磁控溅射圆平面靶系统的磁场分布和荷电粒子分布，对不同磁场强度和阴极电压条件下的荷电粒子分布进行了模拟分析。

工作气压对室温磁控溅射CIGS膜的影响

研究了工作气压对磁控溅射法制备CIGS薄膜的影响, 采用X 射线衍射, 扫描电镜, X 射线萤光光谱和X 射线能量色散谱分析了膜层的组织和成分。

射频磁控溅射沉积Al/Al2O3纳米多层膜的结构及性能

运用射频磁控溅射技术在Si(100) 基片及40Cr钢基体上制备了调制周期K= 60nm, 调制比G= 0.25~3的Al/A12O3纳米多层膜。

常用的几种塑料真空镀膜材料

常用的几种塑料真空镀膜材料有：ABS塑料、聚酯、聚乙烯、聚氯乙烯等。

如何挑选真空镀膜的塑料材料

什么样的塑料才能用真空镀膜机镀膜呢，本文归纳了三种真空镀膜的塑料材料。