推荐磁控溅射铁磁性靶材的主要方法
由于磁控溅射铁磁性靶材的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度，因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度。
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能量过滤磁控溅射技术室温制备ITO膜的光电特性及其应用
本文利用该技术制备了TOLED器件的ITO阳极，研究了ITO薄膜的结构、光学和电学性能，测试了TOLED的发光效率并与DMS 技术制备的器件作了对比。
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低温等离子体辅助脉冲直流磁控溅射制备TiN薄膜
采用一种新型的等离子体辅助脉冲直流磁控溅射溅射沉积方法，在低温状态下制备了氮化钛薄膜，并对氮化钛薄膜进行了表征，研究了等离子体源在薄膜制备过程中的作用。
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射频磁控溅射法沉积SiC-Al薄膜的摩擦特性
通过使用双靶位磁控溅射设备在Ti-6Al-4V合金上沉积了SiC-Al 薄膜，着重研究了Al原子的浓度对SiC-Al薄膜的摩擦系数的影响以及Al中间层对界面强度的影响。
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MgO/Au复合薄膜的反应射频磁控溅射法制备及表面形貌研究
本文采用反应射频磁控溅射法制备MgO/Au复合薄膜，比较了Mg靶和Au靶共溅射、分步溅射制备复合薄膜的表面成分及形貌，研究了溅射时衬底温度和Ar/O2气体流量比对薄膜晶粒分布、晶粒尺寸和结晶取向的影响。
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制备工艺对磁控溅射Mo-N薄膜微结构和性能的影响
本文采用射频磁控溅射的方法，通过改变反应环境中的Mo 靶功率、氩氮比、负偏压等制备一系列的Mo-N 薄膜，利用X 射线衍射仪、纳米压痕仪、扫描电子显微镜和摩擦磨损测试仪对其相结构、显微硬度和摩擦性能进行研究。
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溅射靶材对TiAlN涂层形貌、结构和力学性能的影响
本文通过设计两种靶材，分别是粉末冶金方法和真空熔炼方法制备的原子比为Ti50Al50的合金靶材，在同一磁控溅射设备及同一溅射工艺条件下进行镀膜实验，研究不同组织结构的Ti50Al50合金靶材对TiAlN涂层的组织结构和性
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溅射膜电极与氧化锌压敏陶瓷的界面机制研究
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FeCoB-Al2O3软磁颗粒膜磁特性研究
为了获得软磁颗粒膜，本实验采用了更易控制薄膜成分的射频双靶共溅射制备了一系列的( Fe40Co40B20)1 - x( Al2O3)x软磁颗粒膜。通过振动样品磁强计( VSM) 以及矢量网络分析仪( VNA) 的测量，研究了基片转速、溅射气压
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