推荐磁控溅射铁磁性靶材的主要方法
由于磁控溅射铁磁性靶材的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度，因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度。
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脉冲激光沉积溅射工艺对CIGS薄膜成分和结构的影响
采用脉冲激光沉积溅射法在玻璃衬底上制备Cu-In-Ga预制膜,后经硒化、退火处理,得到CIGS薄膜。采用X射线衍射仪表征了薄膜的晶体结构,采用扫描电子显微镜和能量散射谱观察和分析了薄膜的表面形貌和元素成分,采用光电子
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直流磁控溅射法低温制备GZO:Ti薄膜及其光电性能研究
用直流磁控溅射法在玻璃衬底上成功制备出了钛镓共掺杂氧化锌(GZO:Ti)透明导电薄膜,研究了溅射压强和功率对GZO:Ti薄膜的微观结构和光电性能的影响。
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基片温度对磁控溅射沉积二氧化硅的影响
本文详细地研究了基片温度对磁控溅射沉积二氧化硅的影响,随着基片温度的增加,溅射沉积速率下降明显,薄膜的折射率也出现上升趋势,薄膜也由低温时的疏松粗糙发展为致密光滑。
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铀表面非平衡磁控溅射离子镀Ti基薄膜的组织结构与腐蚀性能
金属铀的化学性质十分活泼,极易发生氧化腐蚀。本文采用磁过滤多弧离子镀在金属铀表面制备Ti过渡层,然后采用非平衡磁控溅射离子镀技术制备了Ti、TiN单层膜及Ti/TiN多层薄膜,以期改善基体的抗腐蚀性能。
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溅射气压对碳化钒薄膜微结构与力学性能的影响
采用碳化钒靶的磁控溅射方法在不同的Ar气压下制备了一系列碳化钒薄膜, 利用能量分析光谱仪, X射线衍射,扫描电子显微镜, 原子力显微镜和微力学探针研究了气压对薄膜成分、相组成、微结构以及力学性能的影响。
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高功率脉冲磁控溅射氩氮比对ZrN薄膜结构及性能的影响
采用高功率复合脉冲磁控溅射的方法(HPPMS)在不锈钢基体上制备ZrN薄膜,对比DCMS方法制备的ZrN薄膜,得出HPPMS制备的薄膜表面更平整光滑、致密,既无空洞、又无大颗粒等缺陷。
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磁控溅射镀膜膜厚均匀性设计方法
在现有的理论基础之上，对溅射镀膜的综合设计方法进行了初步的建立和研究，系统的建立可以采用“整体到部分，再到整体”这一动态设计理念，不断完善设计方法，并将设计方法分为镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计和计算
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小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性研究
从圆平面靶磁控溅射的原理出发，针对圆形平面靶面积小于基片面积的特点进行分析，建立膜厚分布的数学模型，并利用计算机进行模拟计算，目的在于探寻平面靶材面积小于基片面积时影响膜厚均匀性的因素
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磁控溅射法制备BiFeO3/CoFe2O4多铁性复合薄膜及其铁电铁磁性研究
用磁控溅射法在Pt/TiO2/SiO2/Si 衬底上成功制备了BiFeO3 (BFO)/CoFe2O4（CFO）层状结构磁电复合薄膜，测试结果显示此磁电复合薄膜在室温下同时存在铁电性和铁磁性
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